鹽霧試驗箱試驗溶液需用氯化鈉和水進行配比，金屬的鹽霧腐蝕屬電化學腐蝕，鹽中雜質的多少對鹽霧試驗結果有很大影響，如：NaI過量時，無形中會增加金屬間的電位差或使金屬形成保護表面，從而影響金屬腐蝕速率;Cu、Ni離子具有加速腐蝕和干擾試驗結果的作用，尤其是Ni鍍層、Cr鍍層，與實際條件下所得結果的對比性差，使中性鹽霧試驗的可靠性欠佳，因此必須嚴格控制Cu、Ni雜質含量。
德國大眾和法國PSA的控制內(nèi)容大致相當，只是雜質的總質量分數(shù)有所不同，二者之間的關系相當于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差異。
日產(chǎn)標準的內(nèi)容與現(xiàn)行的GB1266-2006《化學試劑
氯化鈉》大致相當，但GB1266-2006僅對碘化物有要求，對Cu、Ni則無要求。日產(chǎn)標準對鹽霧試驗箱用水的要求極其嚴格，其用水標準相當于GB/T6682-2008《分析實驗室用水規(guī)格和試驗方法》標準中的二級水。這與日產(chǎn)對NaCl中雜質含量的要求較為寬松、需要嚴控水中的電導率有關。這種苛刻的試驗用水條件將會大大增加使用日產(chǎn)標準的鹽霧試驗成本。
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